半導体プロセスに使われる「超高純度フッ化水素」を作る技術が国内でもすでに8年前に開発されたことが確認された。
超高純度フッ化水素は、日本が韓国を狙って輸出規制措置を下した3つのコア素材の一つである。
技術の核心は、フッ化水素中の不純物の割合を100億分の1以上減らすことだ。
サムスン電子、SKハイニックスから輸入する日本産フッ化水素と匹敵する純度である。
しかし、この技術は、光を見られなかった。
技術開発に成功した中小企業は販路がはっきりしていない状況で、巨額を投じて生・・産設備を構築することができなかった。
購入する大企業が存在しない場合、莫大な損失だけ抱えるからだ。
これに国内産業生態系の粗末な共生構造が素材・部品産業の競争力の足を引っ張ったという批判が出ている。
22日特許庁特許情報検索サービス（KIPRIS）によると、超高純度フッ化水素を製造する国内技術1件が特許登録されている。
中小企業A社が2011年7月に登録した技術である。
A社は、半導体のエッチング（腐食加工）工程のフッ化水素の製造技術を実験的に証明した。
特許庁は、審査後、この技術に特許を付与して、2013年1月に公開した。
この技術は、半導体のエッチング処理に適した超高純度フッ化水素を得るために、超音波バイブレーターを活用した。
純度が低いフッ化水素中に混ざっている不純物を除去するために添加剤である過酸化水素などを入れて超音波処理をする。
6つの方法で実験した結果、特定の実験では、フッ化水素中の不純物の割合は、少なくとも10億分の1以上、最大100億分の1以下まで下がった。
半導体プロセスに使うことができる「純度99 .999999999％」以上のフッ化水素抽出をやり遂げたのだ。
業界関係者は、「通常、100億分の1や1000億分の1程度の純度がなければ使うことができない」とし「この技術で精製すれば可能だろう」と説明した。
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